（原标题：日本，连气儿搞了10台EUV光刻机）

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据TrendForce征引《日刊工业新闻》报谈，Rapidus规划在其行将在日本开荒的晶圆厂中安设多达 10 台 EUV 光刻器用。这些器用将从2027年运行用于 2nm 级工艺技艺的芯片量产。

据该公司首席推论官小池敦义接纳《日刊》采访时披露，Rapidus 规划在其 IIM-1 和 IIM-2 半导体坐蓐智力中安设 10 台 EUV 光刻机。2024 年 12 月，首台面向日本的 EUV 光刻设备抵达新千岁机场，记号着 Rapidus 发展和日本半导体产业恢复的要害里程碑。

Atsuyoshi Koike 并未披露公司安设EUV器用的时刻表，但可以合理地预期，一些顶端的光刻系统将在异日几年内安设在 IIM-1 上，其余系统将稍后安设在 IIM-2 上。

该公司也莫得披露将使用哪些机器，但由于它正在安设 ASML 的 Twinscan NXE:3800E，因此很可能会在 IIM-1 上使用这些器用。一台 Twinscan NXE:3800E 扫描仪每小时可以惩办多达 220 片晶圆，剂量为 30mj/cm2，或者每 24 小时可惩办 5280 片晶圆，前提是它一直可用，但这频繁不会发生，因为器用需要维修。

很难说明安设的器用数目来推测 Rapidus IIM-2的本色坐蓐智力。在 3nm 时，掩模层总和可能在 100 到 120+ 范围内，具体取决于缱绻的复杂性。其中，20-25 是 EUV 层（尽管这因代工场和缱绻而异）。假定 Rapidus 的 2nm 级工艺技艺将具有 20 个 EUV 层，那么使用五个 EUV 器用（时常运行时刻可以），代工场可以在 IIM-1 每月撑抓未必 17,000 - 20,000 片晶圆。诚然，这是一个特殊粗略的推测，这里有好多变动部分，因此应该严慎对待。

该公司规划于 2025 年 4 月在熟识坐蓐线 IIM-1 上运行 2nm 试坐蓐。据报谈，到 2025 年 6 月，Rapidus 规划向博通委用 2nm 芯片样品，博通是一家主要的 AI 和通讯惩办器契约开发商，与谷歌和 Meta 等公司配合。Rapidus 规划于 2027 年运行在 IIM-1 大界限坐蓐 2nm 家具。IIM-2 工场将稍后上线。

https://www.tomshardware.com/tech-industry/rapidus-to-reportedly-install-10-euv-litho-tools-into-its-fab-in-japan

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